TBS（TBDMS）保护基 —— 醇羟基保护与脱保护
TBS（叔丁基二甲基硅基）是最常用的醇羟基保护基，对碱、多数氧化还原条件和有机金属试剂稳定，可用氟离子或酸脱除。相比 TMS 稳定得多，可以耐受柱层析。
简介
TBS（叔丁基二甲基硅基）是最常用的醇羟基保护基，对碱、多数氧化还原条件和有机金属试剂稳定，可用氟离子或酸脱除。相比 TMS 稳定得多，可以耐受柱层析。
上 TBS 常用条件
- TBSCl（1.1–1.5 equiv），咪唑（2–2.5 equiv），DMF，室温（伯醇、仲醇）
- TBSOTf（1.2–1.5 equiv），2,6-二甲基吡啶（2–3 equiv），DCM，−78 °C 至 0 °C（位阻大的仲醇、叔醇）
- 选择性：伯醇明显快于仲醇，控制当量和温度可选择性保护伯醇
脱 TBS 常用条件
- TBAF（1.1–2 equiv，1 M THF 溶液），THF，0 °C 至室温
- HF·吡啶，THF 或 MeCN（比 TBAF 碱性弱）
- 酸性：AcOH/THF/H2O（3:1:1）；HCl/MeOH；CSA 或 PPTS/MeOH
- 选择性脱除伯醇 TBS：在温和酸性条件下伯醇 TBS 通常先脱除
注意事项
稳定性：碱 ✓ 氧化/还原 ✓ 有机金属试剂 ✓ F⁻ ✗ 强酸 ✗
- TBAF 碱性较强，可能导致酯迁移、消除或环氧开环，可加入 AcOH 缓冲。
- TBAF 后处理中的四丁基铵盐不易除净，可用离子交换树脂处理或多次水洗。
- 硅基在邻位二醇间可能发生迁移。