常用保护基上保护与脱保护条件

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• Boc 保护基 —— 上保护与脱保护条件 — 叔丁氧羰基（Boc）保护胺的常用条件：Boc2O/Et3N 上保护，TFA/DCM 或 4 M HCl/二氧六环脱保护，稳定性、副反应与注意事项。
• Fmoc 保护基 —— 上保护与脱保护条件 — 9-芴甲氧羰基（Fmoc）保护胺的常用条件：Fmoc-OSu/NaHCO3 上保护，20% 哌啶/DMF 脱保护，在多肽固相合成中的应用及注意事项。
• Cbz（Z）保护基 —— 上保护与脱保护条件 — 苄氧羰基（Cbz/Z）保护胺的常用条件：Cbz-Cl/NaHCO3 上保护，H2、Pd/C 氢解或 HBr/AcOH 脱保护，稳定性与注意事项。
• TBS（TBDMS）保护基 —— 醇羟基保护与脱保护 — 叔丁基二甲基硅基（TBS/TBDMS）保护醇羟基的常用条件：TBSCl/咪唑/DMF 或 TBSOTf/2,6-二甲基吡啶，TBAF、HF·吡啶、酸性条件脱保护
• Bn（苄基）保护基 —— 上保护与脱保护条件 — 苄基（Bn）保护醇和酚的常用条件：NaH/BnBr、苄基三氯乙酰亚胺酯上保护，H2/Pd/C 氢解、BCl3 脱保护，稳定性与注意事项。
• PMB（对甲氧基苄基）保护基 —— 上保护与脱保护条件 — 对甲氧基苄基（PMB）保护醇的常用条件：NaH/PMBCl 上保护，DDQ 或 CAN 氧化脱保护、TFA 酸性脱保护，以及与 Bn 的正交性。